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环保署今天预告「半导体制造业空气污染管制及排放标准」修正草案，以「个别排放管道浓度标准」取代「全厂排放量」的管制方式，让管理效率提升，并促进业者革新设备。
环保署今天预告「半导体制造业空气污染管制及排放标准」修正草案及「公私场所应定期检测及申报之固定污染源」修正草案。环保署说明，预告期为60天，以务实、自主、简化三大重点进行研修，期望6月以前公告施行。
环保署空气品质保护及噪音管制处处长蔡孟裕指出，半导体制造业等高科技产业蓬勃发展，厂房规模愈来愈大，草案内容修正管制方式，订定「个别排放管道浓度标准」，拟取代现行「全厂排放量」的管制方式，这对不同规模的半导体制造厂来说会更合理，原本的管制方式对大厂来说太严，对小厂来说太松。
蔡孟裕说明，现行检测管制采行「全厂排放量」时，作业时必须检测自然对数的排放管数量（会大过1根）；采行新制「个别排放管道浓度标准」则仅检测1根，但是执行新制有前提、要件，必须机台的型式、规模、制程等一样，而这么做可以省去不必要的人力浪费，让管理提高效率、更具弹性。
他并说，不过要一直采行新制方式检测的话，这1根排放管的检测结果，处理效能须提高3%或是低于排放标准一半以上，才能继续采行「个别排放管道浓度标准」方式进行管制，如此一来，也能导引业者在新建厂房或新设制程时，应选择污染排放较低或防制效能较佳的设备，否则回归「全厂排放量」方式进行管制。
另外，环保署也预告「公私场所应定期检测及申报之固定污染源」修正草案，修正相关附表，简化整合空污法涉及的检测相关规定，并针对排放浓度高且易导致污染之虞者，规范应设置相关排放监测器，借此强化自主管理。（中央社）
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